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源于台湾团队25年经验的专业黄光微影制程工艺及设备研发,结合日本技术、台湾机构、PLC电控、PC影像处理等各方面精英所组成,拥有8项国际发明专利及27
简介
源于台湾团队25年经验的专业黄光微影制程工艺及设备研发,结合日本技术、台湾机构、PLC电控、PC影像处理等各方面精英所组成,拥有8项国际发明专利及27项实用新型专利及外观设计专利。 专营产品晶元制造黄光制程CoaterandDeveloper(涂布显影设备)系列,包括温湿度控制机、中央供酸系统、光阻... 更多
企业信息
创立年份
2019年
所在地
厦门市

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里程碑1
LOG1
2024
2024-03
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