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三达奥克化学股份有限公司成立于2000年,厂区总建筑面积近5万平方米,其中独立的研发中心大楼占地近万平方米。公司专注于电子化学品专用技术、工业专用清洗
简介
三达奥克化学股份有限公司成立于2000年,厂区总建筑面积近5万平方米,其中独立的研发中心大楼占地近万平方米。公司专注于电子化学品专用技术、工业专用清洗技术、金属加工液技术、金属表面处理技术、商用清洁技术等五大核心技术研发及应用。自三达奥克成立以来,经过十几年的高速发展,现已成为同行业中拥有团队规模、... 更多
企业信息
创立年份
2000年
所在地
大连市

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里程碑1
LOG1
2024
2024-03
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