拓荆科技2022年半年度报告

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业

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成立于2010年的知名半导体专用设备专家，主要负责研发、生产、销售等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，及提供相关技术

成立于2010年的知名半导体专用设备专家，主要负责研发、生产、销售等离子体增强化学气相沉积（PECV

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