简介
成立于2010年的知名半导体专用设备专家，主要负责研发、生产、销售等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，及提供相关技术服务，致力于以科技创新倡导高科技发展
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，... 更多
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