拓荆科技认领

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。 拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设